ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 030 理工学 Science & engineering
  2. 学術雑誌掲載論文

RF放電プラズマによる基板の温度上昇

https://iwate-u.repo.nii.ac.jp/records/9821
https://iwate-u.repo.nii.ac.jp/records/9821
702748ab-8493-43cf-b58f-20fcf0b09afd
名前 / ファイル ライセンス アクション
tieeja-v117n11p1077-1083.pdf tieeja-v117n11p1077-1083.pdf (1.8 MB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2009-10-16
タイトル
タイトル RF放電プラズマによる基板の温度上昇
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 プラズマプロセス
キーワード
主題Scheme Other
主題 RF放電
キーワード
主題Scheme Other
主題 基板温度
キーワード
主題Scheme Other
主題 複屈折
キーワード
主題Scheme Other
主題 レーザ干渉
キーワード
主題Scheme Other
主題 熱流束
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 高木, 浩一

× 高木, 浩一

高木, 浩一

Search repository
佐山, 国央

× 佐山, 国央

佐山, 国央

Search repository
高橋, 淳

× 高橋, 淳

高橋, 淳

Search repository
藤原, 民也

× 藤原, 民也

藤原, 民也

Search repository
永田, 雅克

× 永田, 雅克

永田, 雅克

Search repository
小野, 幹幸

× 小野, 幹幸

小野, 幹幸

Search repository
Muaffaq, Achmad Jani

× Muaffaq, Achmad Jani

Muaffaq, Achmad Jani

Search repository
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 60957
姓名 Takaki, Koichi
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 60958
姓名 Sayama, Kunio
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 60959
姓名 Takahashi, Atsushi
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 60960
姓名 Fujiwara, Tamiya
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 60961
姓名 Nagata, Masayuki
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 60962
姓名 Ono, Motoyuki
著者(機関)
値 岩手大学
著者(機関)
値 岩手大学
著者(機関)
値 岩手大学
著者(機関)
値 岩手大学
著者(機関)
値 フジクラ
著者(機関)
値 フジクラ
著者(機関)
値 岩手大学
登録日
日付 2009-10-16
書誌情報 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌

巻 117, 号 11, p. 1077-1083, 発行日 1997-01-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0385-4205
Abstract
内容記述タイプ Other
内容記述 Temperature rises of a birefringent substrate (LiNbO3) have been measured in an argon RF discharge plasma. The measurement method is based on monitoring the variation of natural birefringence with temperature by laser interferometry. Using this method, the dependence of substrate temperature rise on applied RF power and gas pressure has been investigated. The evaluation of the temperature curves shows that heat flux from the plasma towards the substrate is independent of time and temperature. The magnitude of the flux differs largely from the applied power, and approximately 0.4‰ of the power. By measuring electron density, electron temperature and plasma potential with Langmuir probe, the energy of the ions incident on the substrate is estimated. The ion flux towards the substrate is calculated from the energy of ions and is compared with the measured heat flux. The dependence on the applied power is in approximate agreement between those fluxes. The temperature distribution over the substrate thickness is simulated numerically using the finite difference method.
出版者
出版者 電気学会
権利
権利情報 Copyright© 電気学会
権利URI
権利情報 http://www.iee.or.jp/
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.1 2023-05-15 14:53:31.244630
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3